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　　頂空進樣氣相色譜法(GC-HS)是目前檢測藥物中有機殘留溶劑使用較多的方法，聚光科技（杭州）股份有限公司下屬子公司上海安譜實驗科技股份有限公司（以下簡稱“聚光科技”）嚴格按照ICH、USP、EP法規對于藥物殘留溶劑的要求，推出氣相頂空溶劑。
　　CNW氣相色譜頂空溶劑包含USP<467>和EP2.4.24方法中列出的用于水溶性樣品和非水溶性樣品中有機殘留溶劑分析常用的頂空溶劑，如DMSO、DMF、DMA、NMP。
　　下面是HPLC 級DMSO、DMF、DMA 與HS-GC（氣相頂空）級DMSO、DMF、DMA 進行HS-GC-MS 分析譜圖對比：
　　下圖為不同品牌質控指標對比：
　　對比結果：安譜實驗頂空溶劑（Class1,2,3）殘留溶劑含量均小于其他競爭品牌
　　CNW 氣相色譜頂空溶劑具有以下優勢：
　　GC-HS 級別高純溶劑清單：
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　　檢測器的選擇
　　一般選用FID檢測器，對含鹵素的有機溶劑如氯仿等，采用ECD檢測器可得到更高的靈敏度。
　　溫度的選擇
　　頂空溫度應根據溶解供試品溶劑的特性及供試品中殘留溶劑的沸點選擇。以水為溶劑及測定低沸點殘留溶劑時，頂空溫度不宜超過85℃；測定沸點較高的殘留溶劑時，通常選擇較高的頂空溫度；以DMSO 為溶劑時，頂空溫度不宜超過115℃。
　　時間的確定
　　頂空時間是要確保供試品溶液的氣- 液兩相達到平衡，一般通過測定頂空時間與頂空氣體濃度的濃度—時間曲線來確定。頂空時間不宜過長，一般為30～45分鐘。